Ziele und Methoden des Legierens

Ziele der Dotierung

Bei der Herstellung von Halbleitern gilt die Dotierung als integraler technologischer Prozess (neben der Abscheidung und dem Ätzen). Sein Hauptzweck besteht darin, die Art der Leitfähigkeit und die Ladungsträgerkonzentration im Halbleiter zu korrigieren, um bestimmte Eigenschaften zu erzielen (um die gewünschte Glätte des pn-Übergangs zu erreichen). Die gebräuchlichsten Elemente für die Dotierung von Silizium sind Phosphor P und Arsen As (zur Erzielung der n-Leitfähigkeit) und Bor B (p-Typ).

Dotierungsverfahren

Heute sind drei verschiedene Dotierungstechniken bekannt: Ionenimplantation, Thermodiffusion und Neutronentransmutationsdotierung.

Kaufen, Preis

Die Evek GmbH führt ein breites Sortiment an legierten Produkten. Der Preis ist abhängig von der Menge und den zusätzlichen Lieferbedingungen. Wir schätzen die Zeit unserer Kunden, deshalb sind wir immer bereit, bei der richtigen Wahl zu helfen. Erfahrene Beratungsmanager stehen Ihnen zur Verfügung. Die Produktqualität wird durch die strikte Einhaltung der Produktionsstandards garantiert. Die Vorlaufzeiten sind minimal. Großhändler erhalten ermäßigte Preise.